क्लॉज सल्फर रिकवरी प्रक्रिया मे सक्रिय एल्यूमिना महत्वपूर्ण क्यों?
क्लाउस सल्फर रिकवरी यूनिट म॑ नियोजित एल्यूमिना उत्प्रेरक ई अनुप्रयोग लेली सबसें क्लासिक आरू व्यापक रूप स॑ प्रयोग करलऽ जाय वाला उत्प्रेरक वर्ग के प्रतिनिधित्व करै छै । उच्च-शुद्धता सक्रिय एल्यूमिना हाइड्रोजन सल्फाइड (एच2एस) आ सल्फर डाइऑक्साइड (एसओ2) तत्वीय सल्फर (S) के उत्पादन करै लेली, जबकि एक साथ सल्फर-युक्त उप-उत्पाद जैना कार्बोनाइल सल्फाइड (COS) आरू कार्बन डाइसल्फाइड (CS) के जलविघटन क॑ बढ़ावा दै छै2), जेकरा स॑ सल्फर केरऽ वसूली दर बढ़ी जाय छै ।
क्लाज प्रक्रिया सल्फर रिकवरी की अछि ?
क्लाउस प्रक्रिया आधुनिक उद्योग मे सबस बेसी उपयोग कैल जाय वाला सल्फर रिकवरी तकनीक मे स एक अछि । एकरऽ उपयोग मुख्य रूप स॑ एच युक्त अम्लीय गैस क॑ बदलै लेली करलऽ जाय छै2एस क॑ तत्वीय एस म॑ बदलै छै, जबकि सल्फाइड केरऽ प्रत्यक्ष उत्सर्जन स॑ होय वाला पर्यावरण प्रदूषण क॑ कम करलऽ जाय छै । क्लाउस प्रक्रिया सल्फर रिकवरी विभिन्न औद्योगिक सेटिंग्स पर लागू होयत छै जे सल्फर-धारक अम्ल गैस कें पैघ मात्रा मे उत्पन्न करयत छै, जेना:
* तेल रिफाइनरी : रिफाइनिंग प्रक्रियाक कें दौरान उत्पादित एसिड गैस सं सल्फर कें बरामदगी कें लेल;
* प्राकृतिक गैस प्रसंस्करण: प्राकृतिक गैस डिसल्फराइजेशन के दौरान उत्पन्न एसिड गैस के उपचार करय लेल;
* कोयला रासायनिक उद्योग: कोयला गैसीकरण आ सिंगैस शुद्धिकरण के दौरान उत्पादित सल्फर-धारक एसिड गैस के उपचार करय लेल;
* कोकिंग उद्योग: कोक ओवन गैस में हाइड्रोजन सल्फाइड के तत्व सल्फर में बदलने के लिये;
* पेट्रोकेमिकल उद्योग : एच स सल्फर बरामद करबाक लेल2S- युक्त प्रक्रिया गैस;
* सल्फाइड-संबंधित उद्योग: सल्फ्यूरिक एसिड, विस्कोज, आ रासायनिक फाइबर सं सल्फर-युक्त अपशिष्ट गैस सं निपटनाय.
क्लाज प्रक्रिया मे एल्यूमिना उत्प्रेरक कहाँ स्थित है |
एकटा विशिष्ट क्लाउस प्रक्रिया सल्फर रिकवरी यूनिट मे एसिड गैस फीड सिस्टम, एसिड गैस भट्ठी, बेकार गर्मी बॉयलर, सल्फर कंडेनसर, क्लाउस उत्प्रेरक रिएक्टर, आ तरल सल्फर संग्रहण गड्ढा या सल्फर सील टैंक शामिल छै.
क्लाउस प्रक्रिया के मूल प्रतिक्रिया एच के बीच के प्रतिक्रिया छै2एस आ एसओ2तत्वीय सल्फर के उत्पादन के लिये। व्यवहार में एच के एक हिस्सा2एस कें पहिने एसओ उत्पन्न करय कें लेल दहन कैल जायत छै2; परिणामस्वरूप एसओ2तखन शेष एच के संग प्रतिक्रिया करैत अछि2S एक उत्प्रेरक-क्लाउस प्रतिक्रिया-पर सल्फर वाष्प उत्पन्न करय छै, जे ठंडा करला पर तरल सल्फर पैदा करै छै.
एहि लेल,क्लाउस एल्यूमिना उत्प्रेरकमुख्य रूप स॑ ई उत्प्रेरक रिएक्टरऽ म॑ प्रयोग करलऽ जाय छै । आरू मानक औद्योगिक क्लाउस उत्प्रेरक बेड म॑ आम तौर प॑ सक्रिय एल्यूमिना के प्रयोग करलऽ जाय छै ।
क्लाउस प्रक्रिया में सक्रिय एल्यूमिना उत्प्रेरक के कार्य |
मुख्य क्लॉज प्रतिक्रिया के उत्प्रेरक। ई सबसँ महत्वपूर्ण काज अछि ! बिना उत्प्रेरक के, एच के बीच प्रतिक्रिया दर2एस आ एसओ2अपेक्षाकृत धीमा अछि; तथापि, सक्रिय एल्यूमिना अनेक सक्रिय सतह स्थल प्रदान करै छै, जेकरा स॑ ई प्रतिक्रिया औद्योगिक रूप स॑ स्वीकार्य तापमान प॑ तेजी स॑ संतुलन के नजदीक पहुँचै म॑ सक्षम होय जाय छै ।
सीओएस जलविघटन के उत्प्रेरक। के अलावा एच2एस, एसिड गैस में आम तौर पर सीओ होता है |2, हाइड्रोकार्बन, आ थोड़ी मात्रा मे कार्बनिक सल्फाइड। तापीय प्रतिक्रिया भट्ठी म॑ कुछ सल्फर-युक्त कार्बनिक यौगिक सीओएस आरू सीएस बनाबै छै2. सक्रिय एल्यूमिना सीओएस के भीतर सल्फर के वापस एच में बदलै के उत्प्रेरक बनाबै छै2एस, एकरा क्लाउस प्रतिक्रिया प्रणाली मे प्रवेश करबाक अनुमति दैत अछि; कुल सल्फर रिकवरी दर कें अधिकतम करय कें लेल इ बहुत महत्वपूर्ण छै.
उत्प्रेरक सीएस2जलविघटन। सी. एस2क्लाज प्रक्रिया मे विशेष चिंता के उपोत्पाद अछि|सीएस के जलविघटन2अणु के भीतर निहित सल्फर क॑ वापस एच म॑ बदली दै छै2एस, जेकरा बाद में क्लाउस प्रतिक्रिया में भाग लेबै में सक्षम बनाबै छै; ई सक्रिय एल्यूमिना उत्प्रेरक केरऽ एगो आरू प्रमुख कार्य छै ।
क्लॉज सल्फर रिकवरी मे सक्रिय एल्यूमिना आवश्यक कियैक अछि ?
एल्यूमिना-आधारित क्लाउस उत्प्रेरक के लेलऽ, कुंजी खाली Al क॑ अधिकतम नै करी रहलऽ छै2O3सामग्री। बल्कि एकरा लेली विशिष्ट सतह क्षेत्र, छिद्र संरचना, सतह गतिविधि, आरू निष्क्रियता के प्रतिरोध के व्यापक अनुकूलन के आवश्यकता छै.
एच के भिन्न आणविक आकार के देखते हुए |2एस, एसओ2, सीओएस, सीएस2, आ एच2O-आरू ई तथ्य कि क्लाउस प्रतिक्रिया म॑ उत्प्रेरक कणऽ के भीतर बहु-घटक गैसऽ के प्रसार शामिल छै-छिद्र आकार प्रबंधन महत्वपूर्ण छै । यदि छिद्र बहुत छोट होय छै त॑ अभिकर्मक के प्रसार म॑ बाधा आबै छै आरू आंतरिक प्रसार प्रतिरोध बढ़ी जाय छै, जेकरा स॑ उत्प्रेरक के भीतर सक्रिय स्थलऽ के पूरा उपयोग नै होय जाय छै । एकरऽ विपरीत अगर छिद्र बहुत बड़ऽ होय जाय छै त॑ सक्रिय स्थलऽ के संख्या कम होय जाय छै । फलस्वरूप, औद्योगिक क्लाउस उत्प्रेरक कें लेल विशेष रूप सं इंजीनियरिंग छिद्र आकार वितरण कें आवश्यकता होयत छै, आ सक्रिय एल्यूमिना इ आवश्यकताक कें पूरा करय कें लेल आवश्यक सतह गुण आ छिद्र संरचना प्रदान कयर सकय छै.
सिनमत केमिकलअनुकूलित उच्च-शुद्धता प्रदान करैत अछिसक्रिय एल्यूमिना उत्प्रेरकविशेष रूप स क्लाउस प्रक्रिया सल्फर रिकवरी के लेल। अधिक जानकारी के लेल कृपया देखूसक्रिय एल्यूमिनाउत्पाद श्रेणी।
